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立式磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線
在高科技迅猛發(fā)展的今天,半導(dǎo)體材料作為信息技術(shù)的基石,其制造過程中的每一步都至關(guān)重要。其中,鍍膜技術(shù)作為提升半導(dǎo)體器件性能的關(guān)鍵環(huán)節(jié),更是備受矚目。立式半導(dǎo)體磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線,作為一種高效、精準(zhǔn)的鍍膜設(shè)備,正逐步成為半導(dǎo)體制造業(yè)的主流選擇。
金石東方開發(fā)的專用設(shè)備可應(yīng)用在半導(dǎo)體基材上面沉積金屬層或者化合物層的連續(xù)鍍膜設(shè)備等。主要用于大面積,高潔凈度的玻璃等表面磁控濺射高質(zhì)量、多功能的金屬膜、防干擾電磁屏蔽膜(EMI)、反應(yīng)膜、復(fù)合膜、透明導(dǎo)電膜(ITO)、減反射膜(AR)、增反射膜等。